我国近两年在芯片领域的发展是我们可以看得到的，就算我们看不到我们也能深刻的体会到，因为我们现在所用的手机越来越智能了，还有就是家里面家庭条件好一点的人可能也能够感受到所使用的电器越来越先进越来越让人舒服了。
但是很多人可能知道我国目前所研制出的芯片真的是越来越先进了，但是我国却暂时还不具有生产这些先进芯片的能力，其实主要的原因就是我们在光刻机这个领域遇到了很多的难题，我们到现在都还没有全部解决。
第一是因为我国目前身上光刻机的技术比较落后，只能够生产90纳米芯片的光刻机，第二，我国不是不想取得成就，而是在向其他国家借鉴光刻机的技术时受到了一些国家的刻意阻挠。
综上所述，如果我国想要在光刻机方面取得进步，那么我们就需要靠自己的努力去从其他地方找突破口。
我们或许不知道，光刻机他有三种光源，最开始使用的是汞灯光源，而后来用了DUV光源，现在用的就是EUV光源。
当然现在，相关领域的科研人员已经发现了，如果能够掌握浸润式技术不需要EUV光源，国产光刻机也有望进入10nm，这是因为台积电三星这样的芯片生产巨头已经验证了，浸润式技术带来的好处。
掌握浸润式技术从字面上来理解特别的简单，但如果真正的要去掌握这一个技术的话，我国还是需要做出很大的努力才可以，毕竟我们现在只能够生产出90纳米的光刻机与其他国家差了好几代，想要跨出这一步使得其他国家对于我国的发展没有影响那是比较困难的。
又加上现在美国还出台了一些禁令，让一些境外企业不敢向我国提供材料和一些技术，但是，这至少说明国产光刻机有望进入10nm，我们只需要掌握浸润式技术即可。
如果你对我国的光刻机研制有什么见解，你也可以评论出来，毕竟很多的想法有时候虽然是天马行空的，但是实际做出来的成效还是挺好的。
好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！
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